近日，我院熊君副研究员在国际能源领域的权威期刊《Journal of Materials Chemistry A》（SCI一区，IF = 11.301）上发表综述论文“Interface engineering in low-dimensional bismuth-based materials for photoreduction reactions”（J. Mater. Chem. A, 2021, 9, 2662-2677）。江苏大学为该论文的第一单位，熊君副研究员为第一作者和通讯作者。

　　由于在促进光吸收，电荷分离以及界面催化反应过程中的重要作用，低维材料被认为是实现优异光催化性能的有效结构。由于这些特点，近年来低维铋基材料在光还原反应方面的研究取得了很大的进展。在本文中，我们首先概括了各种低维铋基材料的可控合成方法，可以分为液相剥离、直接沉淀、水热/溶剂热、表面活性剂自组装方法、模板导向法和层状杂化中间体策略。随后，我们总结了通过调节精细的几何结构和电子结构来优化光还原活性的各种界面工程方法的最新进展，例如富铋策略、晶面控制、晶面结、表面缺陷工程、应力工程、助催化剂修饰、单原子改性和异质结。最后，对用于光还原反应的低维铋基材料的未来机遇和挑战进行了展望。